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Dans le cadre d'une série
d'événements locaux organisés par MARQUES en collaboration avec l'OMPI
L'Accord de La Haye concernant l'enregistrement
international des dessins ou modèles offre la possibilité d'obtenir une
protection pour les dessins et modèles industriels dans plus de 80 pays via
une demande unique déposée auprès de l'OMPI. La demande internationale
remplace le dépôt de plusieurs demandes locales auprès des Offices nationaux
ou régionaux et, par conséquent, permet de gagner du temps et de l'argent.
Toutefois, l'accord de La Haye prévoit uniquement un mécanisme
d'enregistrement centralisé et normalisé au niveau international, et non pas
une règlementation uniforme. Aussi, bien que les exigences formelles
spécifiques soient ainsi écartées, les différentes exigences de fond posées
par chaque juridictions peuvent néanmoins d'avoir une incidence sur
le processus d’enregistrement dans le cadre du système de La Haye et doivent
donc être prises en compte au moment du dépôt.
L'objectif du séminaire, organisé par MARQUES en
collaboration avec l'OMPI, est de donner aux utilisateurs la possibilité de
mieux connaitre le fonctionnement du système de La Haye et de pouvoir
l'utiliser en pratique. Le séminaire se concentrera plus précisément sur
la pratique liée aux désignations du Japon, de la République
de Corée ou des États-Unis d'Amérique afin de fournir aux utilisateurs
européens un retour d’expérience et des conseils. |
